美国EDA龙头Synopsys公布N3E工艺设计流程，已获台积电认证

N3E工艺芯片很快就能到来。

据外媒报道称，美国电子设计自动化公司、IC界面IP供应厂商新思科技（Synopsys）今日宣布，最新一代数位与客制化设计流程已获得台积电升级版3nm（N3E）制程的认证。此前，新思科技的SiliconSmart 元件库特性解决方案获台积电N5、N4 和N3 制程技术认证。

据悉，该流程与新思科技旗下基础和介面IP组合已在台积电N3E制程中实现了多次成功投片（tape out），可协助客户加速研发。

台积电N3工艺将于本季度（第4季度）量产。而对于升级版的N3E工艺，台积电总裁魏哲家先前表示，N3E技术开发进度较计划提前，预计在2023年下半年量产。

作为全球EDA龙头，新思科技很早就与台积电保持密切的合作。今年，新思科技加入由台积电成立的开放创新平台（OIP）3D Fabric联盟，该联盟还包括美光、SK海力士、日月光、Arm、西门子等企业。

对于新工艺，新思科技矽晶实现事业群行销策略副总裁 SanjayBali表示，近期的成果代表着新思科技与台积电持续成功合作的另一项重要里程碑，将为设计人员带来可满足其关键设计要求的方法。

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