光刻机自主研发新动向：清华大学团队发表SSMB EUV光源研究成果

SSMB EUV光源将有望解决光刻机的“卡脖子”难题。

近日，来自清华大学的科研团队发表了一份基于SSMB的EUV光源技术研究成果，该项技术将有助于解决目前我国自研光刻机中最核心的“卡脖子”难题。

据清华大学官网发布的消息，清华大学工程物理系教授唐传祥研究组与来自亥姆霍兹柏林材料与能源研究中心（HZB），以及德国联邦物理技术研究院（PTB）的合作团队在《自然》科学杂志（Nature）上，刊发了题为“稳态微聚束原理的实验演示”（Experimentaldemonstration of the mechanism of steady-state microbunching）的研究论文。

该论文报告了一种新型粒子加速器光源“稳态微聚束”（Steady-state microbunching，SSMB），及其首个原理验证实验。

据介绍，在芯片制造产业链中，光刻机是必不可少的精密设备，是集成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。芯片工业界公认的新一代主流光刻技术，是采用波长为13.5纳米光源的EUV（极紫外光源）光刻技术。其中，大功率的EUV光源是EUV光刻机的核心基础。

EUV光刻机被认为是最顶尖的光刻机，也是高精尖芯片生产过程中不可或缺的设备。但该设备目前只能由荷兰ASML公司生产，且每台设备售价超过1亿美元。

生产光刻机的其中一项技术难点，是如何提供波长短、功率大的EUV光源。

据清华大学研究团队发布的实验结果显示，基于SSMB原理，能获得高功率、高重频、窄带宽的相干辐射，波长可覆盖从太赫兹到极紫外（EUV）波段。

因此，《自然》评阅人对稳态微聚束原理的实验成果给予了高度评价，认为该项研究展示了一种新的方法论，必将引起粒子加速器和同步辐射领域的兴趣。

唐传祥教授表示，“SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这是国际社会高度关注清华大学SSMB研究的重要原因。”

他还指出，尽管SSMBEUV光源有望解决自主研发光刻机中最核心光源问题，但EUV 光刻机的自主研发还有很长的路要走。这不仅需要对SSMB EUV光源的持续科研攻关，还需要半导体行业上下游产业链的配合。

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